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超低漏電流光耦繼電器,讓半導體測試更可靠

2020-05-31

根據(jù)摩爾( Moore)定律,半導體芯片中可容納的晶體管數(shù)目,大約每隔18個月便翻一番,性能也將提升一倍。芯片內(nèi)晶體管的特征尺寸每年都在減小,這也導致晶體管的密度不斷增大,這樣一來,芯片內(nèi)部模塊集成度越來越高,測試的復雜度也逐漸升級。在半導體器件生產(chǎn)中,測試成為貫穿于集成電路設計、制造、保證芯片質(zhì)量的重要環(huán)節(jié),而漏電流是半導體測試極其重要的一項參數(shù)。

半導體器件在生產(chǎn)過程中,需要加入雜質(zhì)離子,這樣一來就難免會產(chǎn)生漏電流。漏電流過大,導致器件測試過程中功耗增加,溫度升高,溫度一升高又加劇內(nèi)部漏電流增大,從而形成惡性循環(huán),不但增加了電源系統(tǒng)的功耗,產(chǎn)生過多的噪聲干擾,也在一定程度上縮短了半導體器件的使用壽命。

日本進口MOS FET光耦繼電器模塊G3VM-21MT,采用了T型電路結構,當主電路斷開,子電路閉合時,漏電流可以低至1pA以下,特別適合應用于半導體測試設備中。


產(chǎn)品特性

采用小型SMD封裝,外形緊湊,節(jié)省了PCB布局空間。

通過T型電路設計,漏電流1pA以下,極大地減少了接入被測器件的漏電流。

三個MOS FET繼電器組成1組常開觸點(SPST-NO) + T開關功能。

優(yōu)秀的高頻特性,1.5GHz時絕緣值高達20dB以上。

可靠性高,壽命長。

電氣參數(shù):

主要應用:

半導體測試設備

數(shù)據(jù)記錄儀

信號發(fā)生器



廣州鼎悅電子科技有限公司, 提供(OMRON)多達200多種以上規(guī)格的MOS FET系列光耦繼電器,產(chǎn)品豐富,配合超低漏電流型G3VM-21MT以及新推出的電壓驅(qū)動型G3VM-31QVG3VM-61QV,給您的產(chǎn)品設計選型提供了更多選擇。





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